實驗(yàn)室用(yòng)高壓反應釜

描(miáo)述：爆破片(piàn)改(gǎi)為(wéi)比(bǐ)例卸(xiè)荷閥，采(cǎi)用直(zhí)角高壓(yā)針(zhēn)閥(fá)，閥門開口(kǒu)垂(chuí)直於(yú)釜(fǔ)蓋(gài)，液體取樣殘(cán)留少，標配比(bǐ)例(lì)卸荷閥，壓力泄(xiè)放(fàng)可以重復(fù)使用，泄放壓(yā)力可(kě)調，冷(lěng)卻塔設(shè)計，保(bǎo)證關(guān)鍵(jiàn)部(bù)件(jiàn)在高溫使(shǐ)用(yòng)情(qíng)況(kuàng)下(xià)無(wú)超溫之憂(yōu)，保(bǎo)證(zhèng)配件(jiàn)使用壽(shòu)命(mìng)。上(shàng)海岩征儀器，專業(yè)生(shēng)產(chǎn)各(gè)種實(shí)驗室設備，實(shí)驗室用高(gāo)壓(yā)反(fǎn)應釜，全自動(dòng)反(fǎn)應(yīng)釜(fǔ)等，歡迎前(qián)來咨(zī)詢。

廠商(shāng)性質(zhì)
生產廠(chǎng)家
更新(xīn)時間
2023-11-02
訪(fǎng)問量
3756

產(chǎn)品咨詢聯(lián)係(xì)我們(mén)

詳細(xì)介(jiè)紹(shào)

品牌(pái)	其他(tā)品牌	產地類(lèi)別(bié)	國(guó)產(chǎn)

岩征(zhēng)儀器實驗(yàn)室用(yòng)高壓反應(yīng)釜(fǔ)是由：特製光(guāng)源，不(bù)鏽鋼釜(fǔ)體以(yǐ)及控製係(xì)統(tǒng)組成(chéng)。用於新(xīn)能源，環境(jìng)，新藥研(yán)發領(lǐng)域的(dí)高(gāo)溫(wēn)高壓(yā)光(guāng)化學催(cuī)化，合成，降解(jiě)的(dí)中試及放大生(shēng)產。

岩(yán)征儀器實驗(yàn)室用(yòng)高壓(yā)反(fǎn)應釜技(jì)術(shù)特點(diǎn)：

1，光(guāng)源可按照(zhào)客戶要求選(xuǎn)擇(zé)，采用(yòng)LCD10.1英吋液晶觸摸控製器，光源光電(diàn)參數及光化學反應(yīng)的溫度(dù)，攪拌(bàn)等參數(shù)實時(shí)數字(zì)顯示(shì)在屏(píng)幕(mù)上。

2，光源(yuán)與(yǔ)釜(fǔ)體連接(jiē)部(bù)分采用技術(shù)保證耐(nài)壓氣密性(xìng)，國內*。

3，更專業的光(guāng)化(huà)學釜體生(shēng)產工藝：釜體包含壓力(lì)表，防爆(bào)裝(zhuāng)置，進氣(qì)閥門，取(qǔ)樣閥(fá)門(mén)，溫度測溫探杆(gān)，耐壓光源插(chā)入口等(děng)，在(zài)保證您的(dí)生(shēng)產(chǎn)安全前提下(xià)更方(fāng)便您(nín)的(dí)操(cāo)作。

4，采用浸(jìn)入(rù)式光源設計，物料與光源(yuán)充分接觸，光(guāng)化學反應(yīng)釜(fǔ)配備(bèi)大(dà)功率攪拌電(diàn)機(jī)帶動(dòng)錨(máo)式攪拌槳，讓物(wù)料能均匀(yún)吸收(shōu)光子能量(liáng)。

岩征(zhēng)儀器 光(guāng)化學(xué)配置(zhì)表：

型(xíng)號(hào)	YZ-GHX-HP係列(liè)
光(guāng)源(yuán)類型	低壓(yā)汞燈,高壓汞(gǒng)燈(dēng),氙氣燈,鈉(nà)燈,led燈(dēng),準分子(zǐ)燈
光源冷(lěng)卻(què)形(xíng)式	強(qiáng)製水(shuǐ)冷，采(cǎi)用強製導(dǎo)流夾套(tào)式光源(yuán)冷阱
容積	5-500L
設計(jì)參數	設(shè)計(jì)壓力(lì)1mpa,設計溫度：250℃
攪(jiǎo)拌設計	采(cǎi)用(yòng)磁(cí)力耦合(hé)機(jī)械(xiè)式攪拌，零泄漏，攪拌(bàn)轉速：0-750轉(zhuǎn)/分
控製(zhì)係(xì)統(tǒng)	一(yī)體式控(kòng)製機(jī)櫃(guì)，上(shàng)部控製(zhì)光源，下部分控(kòng)製反應釜(fǔ)溫度，攪(jiǎo)拌(bàn)
光源冷卻設備	大功(gōng)率(shuài)激(jī)光冷(lěng)水機，給光源及(jí)冷(lěng)凝(níng)回流提供(gōng)降溫保證(zhèng)